Kmeť, A., Harmatha, L., & Kováč, P. (2007). Charakterizácia elektrofyzikálnych vlastností implantovaných štruktúr MOS s tenkými izolačnými vrstvami s vysokou permitivitou. STU v Bratislave FEI.
Copia nella clipboard completata con successo
Copia nella clipboard fallita
Citazione stile Chigago Style (17a edizione)
Kmeť, Adam, Ladislav Harmatha, e Peter Kováč. Charakterizácia Elektrofyzikálnych Vlastností Implantovaných štruktúr MOS S Tenkými Izolačnými Vrstvami S Vysokou Permitivitou. Bratislava: STU v Bratislave FEI, 2007.
Copia nella clipboard completata con successo
Copia nella clipboard fallita
Citatione MLA (9a ed.)
Kmeť, Adam, et al. Charakterizácia Elektrofyzikálnych Vlastností Implantovaných štruktúr MOS S Tenkými Izolačnými Vrstvami S Vysokou Permitivitou. STU v Bratislave FEI, 2007.
Copia nella clipboard completata con successo
Copia nella clipboard fallita
Attenzione: Queste citazioni potrebbero non essere precise al 100%.