Cita APA (7a ed.)
Kmeť, A., Harmatha, L., & Kováč, P. (2007). Charakterizácia elektrofyzikálnych vlastností implantovaných štruktúr MOS s tenkými izolačnými vrstvami s vysokou permitivitou. STU v Bratislave FEI.
Cita Chicago Style (17a ed.)
Kmeť, Adam, Ladislav Harmatha, y Peter Kováč. Charakterizácia Elektrofyzikálnych Vlastností Implantovaných štruktúr MOS S Tenkými Izolačnými Vrstvami S Vysokou Permitivitou. Bratislava: STU v Bratislave FEI, 2007.
Cita MLA (9a ed.)
Kmeť, Adam, et al. Charakterizácia Elektrofyzikálnych Vlastností Implantovaných štruktúr MOS S Tenkými Izolačnými Vrstvami S Vysokou Permitivitou. STU v Bratislave FEI, 2007.
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.