Kmeť, A., Harmatha, L., & Kováč, P. (2007). Charakterizácia elektrofyzikálnych vlastností implantovaných štruktúr MOS s tenkými izolačnými vrstvami s vysokou permitivitou. STU v Bratislave FEI.
Successfully copied to clipboard
Copying to clipboard failed
Chicago Style (17th ed.) Citation
Kmeť, Adam, Ladislav Harmatha, and Peter Kováč. Charakterizácia Elektrofyzikálnych Vlastností Implantovaných štruktúr MOS S Tenkými Izolačnými Vrstvami S Vysokou Permitivitou. Bratislava: STU v Bratislave FEI, 2007.
Successfully copied to clipboard
Copying to clipboard failed
MLA (9th ed.) Citation
Kmeť, Adam, et al. Charakterizácia Elektrofyzikálnych Vlastností Implantovaných štruktúr MOS S Tenkými Izolačnými Vrstvami S Vysokou Permitivitou. STU v Bratislave FEI, 2007.
Successfully copied to clipboard
Copying to clipboard failed
Warning: These citations may not always be 100% accurate.