Kuruc, M., Hulényi, L., & Kinder, R. (2009). Application of spreading resistence profiling for monitoring of semiconductor technological processes = Využitie metódy rozptylového odporu na monitorovanie technologických procesov polovodičovej výroby: Dát. obhaj. 25.02.2010, č. ved. odb. 26-13-9. STU v Bratislave FEI.
Copia nella clipboard completata con successo
Copia nella clipboard fallita
Citazione stile Chigago Style (17a edizione)
Kuruc, Marián, Ladislav Hulényi, e Rudolf Kinder. Application of Spreading Resistence Profiling for Monitoring of Semiconductor Technological Processes = Využitie Metódy Rozptylového Odporu Na Monitorovanie Technologických Procesov Polovodičovej Výroby: Dát. Obhaj. 25.02.2010, č. Ved. Odb. 26-13-9. Bratislava: STU v Bratislave FEI, 2009.
Copia nella clipboard completata con successo
Copia nella clipboard fallita
Citatione MLA (9a ed.)
Kuruc, Marián, et al. Application of Spreading Resistence Profiling for Monitoring of Semiconductor Technological Processes = Využitie Metódy Rozptylového Odporu Na Monitorovanie Technologických Procesov Polovodičovej Výroby: Dát. Obhaj. 25.02.2010, č. Ved. Odb. 26-13-9. STU v Bratislave FEI, 2009.
Copia nella clipboard completata con successo
Copia nella clipboard fallita
Attenzione: Queste citazioni potrebbero non essere precise al 100%.