Charakterizácia štruktúr MIS s veľmi tenkými izolačnými vrstvami
Enregistré dans:
| Auteur principal: | |
|---|---|
| Autres auteurs: | , |
| Format: | Manuscrit Livre |
| Langue: | slovaque |
| Publié: |
Bratislava :
STU v Bratislave FEI,
2005
|
| Sujets: | |
| Tags: |
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!
|
Documents similaires: Charakterizácia štruktúr MIS s veľmi tenkými izolačnými vrstvami
- Charakterizácia elektrofyzikálnych vlastností implantovaných štruktúr MOS s tenkými izolačnými vrstvami s vysokou permitivitou
- Charakterizácia elektrických vlastností štruktúr MOS s tenkými dielektrickými vrstvami s vysokou dielektrickou konštantou
- Charakterizácia štruktúr MIS s oxidom ytria
- Nestabilitní jevy v soustavách s tenkými dielektrickými vrstvami : Kand.diz.práca : V.odb. 26-10-9 : Obh. 10.05.1970 /
- Elektrická charakterizácia vlastností štruktur MOS s veľmi tenkým oxidom
- Analýza prúdovo-napäťových charakteristík štruktúr MOS s tenkými dielektrickýcmi vrstvami s vysokou dielektrickou konštatantou