Vplyv ťažkých iónov Kr na vlastnosti štruktúry MOS so substrátom dotovaným dusíkom
Enregistré dans:
| Auteur principal: | |
|---|---|
| Format: | Manuscrit Livre |
| Langue: | slovaque |
| Publié: |
Bratislava :
STU v Bratislave FEI,
2006
|
| Sujets: | |
| Tags: |
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!
|
Documents similaires: Vplyv ťažkých iónov Kr na vlastnosti štruktúry MOS so substrátom dotovaným dusíkom
- Určovanie generačnej doby života v štruktúrach MOS s dusíkom dotovaným Si substrátom
- Charakterizácia štruktúr MOS s dusíkom dotovaným Si substrátom pre unipolárnu vykonovú elektroniku
- Skúmanie vlastností štruktúry MOS s nehomogénnym substrátom ožiarenej ťažkými vysokoenergetickýcmi iónmi
- Skúmanie vplyvu ťažkých iónov Kr a Bi na vlastnosti tranzistorov KF 520 a KF 522
- Analýza spektrometrických vlastností iónovo - optickej trasy ECR laboratória ťažkých iónov
- Elektrofyzikálne vlastnosti štruktúry MOS ožiarenej vysokoenergetickými iónmi