Hudák, E., Harmatha, L., & Ťapajna, M. (2008). Vplyv techniky depozície Ru a RuO2 kovových hradiel na elektrické vlastnosti štruktúr MOS a Ta2O5 hradlovýcm dielektrikom. STU v Bratislave FEI.
Copiado correctamente al portapapeles
Error al copiar al portapapeles
Cita Chicago Style (17a ed.)
Hudák, Erik, Ladislav Harmatha, y Milan Ťapajna. Vplyv Techniky Depozície Ru a RuO2 Kovových Hradiel Na Elektrické Vlastnosti štruktúr MOS a Ta2O5 Hradlovýcm Dielektrikom. Bratislava: STU v Bratislave FEI, 2008.
Copiado correctamente al portapapeles
Error al copiar al portapapeles
Cita MLA (9a ed.)
Hudák, Erik, et al. Vplyv Techniky Depozície Ru a RuO2 Kovových Hradiel Na Elektrické Vlastnosti štruktúr MOS a Ta2O5 Hradlovýcm Dielektrikom. STU v Bratislave FEI, 2008.
Copiado correctamente al portapapeles
Error al copiar al portapapeles
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.