Vplyv techniky depozície Ru a RuO2 kovových hradiel na elektrické vlastnosti štruktúr MOS a Ta2O5 hradlovýcm dielektrikom
Uložené v:
| Hlavný autor: | |
|---|---|
| Ďalší autori: | , |
| Médium: | Rukopis Kniha |
| Jazyk: | Slovak |
| Vydavateľské údaje: |
Bratislava :
STU v Bratislave FEI,
2008
|
| Predmet: | |
| Tagy: |
Žiadne tagy, Buďte prvý, kto otaguje tento záznam!
|