Metódy vytvárania tenkých vrstiev
Uložené v:
| Hlavný autor: | |
|---|---|
| Ďalší autori: | |
| Médium: | Rukopis Kniha |
| Jazyk: | Slovak |
| Vydavateľské údaje: |
STU v Bratislave MTF UMAT,
2010
|
| Predmet: | |
| On-line prístup: | VAIS |
| Tagy: |
Žiadne tagy, Buďte prvý, kto otaguje tento záznam!
|
Podobné jednotky: Metódy vytvárania tenkých vrstiev
- Optimalizácia dávkovania kvapalného prekurzora pre prípravu tenkých vrstiev metódou MOCVD
- Príprava a štúdium vlastností tenkých vrstiev manganitov a heteroštruktúr izolant/manganit pripravených metódou MOCVD
- Štruktúrna charakterizácia nanokompozitných tenkých vrstiev : Č. ved. odb. Dát. obhaj.
- Depozícia tenkých vrstiev využitím magnetrónového naprašovania a dutej katódy
- Optimalizácia senzorických vlastností naprašovaných tenkých vrstiev : Obhaj. 7.4.2005, čís.ved.odb. 26-13-9
- Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy dielektrických tenkých vrstiev s vysokou permitivitou určených pre moderné CMOS štruktúry