Príprava a vlastnosti tenkých oxidových supravodivých vrstiev na báze TI a možnosti ich aplikácie v oblasti kryoelektroniky : č.ved.odb. 5-2-48. Obhaj. 22.9.2010
Salvato in:
| Autore principale: | |
|---|---|
| Altri autori: | |
| Natura: | Manoscritto Libro |
| Lingua: | slovacco |
| Pubblicazione: |
Bratislava :
STU v Bratislave FEI,
2010
|
| Soggetti: | |
| Tags: |
Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne!!
|
Documenti analoghi: Príprava a vlastnosti tenkých oxidových supravodivých vrstiev na báze TI a možnosti ich aplikácie v oblasti kryoelektroniky :
- Metódy vytvárania tenkých vrstiev
- Štruktúrna charakterizácia nanokompozitných tenkých vrstiev : Č. ved. odb. Dát. obhaj.
- Optimalizácia senzorických vlastností naprašovaných tenkých vrstiev : Obhaj. 7.4.2005, čís.ved.odb. 26-13-9
- Príprava a štúdium vlastností tenkých vrstiev manganitov a heteroštruktúr izolant/manganit pripravených metódou MOCVD
- Optimalizácia dávkovania kvapalného prekurzora pre prípravu tenkých vrstiev metódou MOCVD
- Preparation and properties the mercury based thin films of very high Tc superconductors and their possible application in cryoelectronics : Obh.: 27.9.2007, V.odb. 26-35-9