Štúdium fotoelektrických vlastností tenkých vrstiev TiO2 pripravených plazmochemickou oxidáciou : Obh. 9.6.1993 /
Enregistré dans:
| Auteur principal: | |
|---|---|
| Format: | Manuscrit Livre |
| Langue: | slovaque |
| Publié: |
Bratislava :
STU v Bratislave ChtF,
1993
|
| Tags: |
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!
|
Documents similaires: Štúdium fotoelektrických vlastností tenkých vrstiev TiO2 pripravených plazmochemickou oxidáciou :
- Štúdium fotoelektrických a fotoelektrochemických vlastností vrstiev TiO2 pripravených sól-gél procesom : Obh. 7.6.1994 /
- Štúdium fotokorózie anodicky pripravených TiO2 vrstiev : Obh. 9.6.1993 /
- Fotoelektrochemické vlastnosti oxidových vrstiev n-TiO2 : Obh. 3.6.1991 /
- Príprava a vlastnosti imobilizovaných vrstiev TiO2 : Obh. 13.6.1995 /
- Vlastnosti tenkých vrstiev ZnO pripravených pulznou laserovou depozíciou
- Fotoelektrochemická aktivita a stabilita dopovaných TiO2 vrstiev : Obh. 10.6.1993 /