Štúdium fotoelektrických vlastností tenkých vrstiev TiO2 pripravených plazmochemickou oxidáciou : Obh. 9.6.1993 /
Uložené v:
| Hlavný autor: | |
|---|---|
| Médium: | Rukopis Kniha |
| Jazyk: | Slovak |
| Vydavateľské údaje: |
Bratislava :
STU v Bratislave ChtF,
1993
|
| Tagy: |
Žiadne tagy, Buďte prvý, kto otaguje tento záznam!
|
Podobné jednotky: Štúdium fotoelektrických vlastností tenkých vrstiev TiO2 pripravených plazmochemickou oxidáciou :
- Štúdium fotoelektrických a fotoelektrochemických vlastností vrstiev TiO2 pripravených sól-gél procesom : Obh. 7.6.1994 /
- Štúdium fotokorózie anodicky pripravených TiO2 vrstiev : Obh. 9.6.1993 /
- Fotoelektrochemické vlastnosti oxidových vrstiev n-TiO2 : Obh. 3.6.1991 /
- Príprava a vlastnosti imobilizovaných vrstiev TiO2 : Obh. 13.6.1995 /
- Vlastnosti tenkých vrstiev ZnO pripravených pulznou laserovou depozíciou
- Fotoelektrochemická aktivita a stabilita dopovaných TiO2 vrstiev : Obh. 10.6.1993 /