Process engineering analysis in semiconductor device fabrication /

Uložené v:

Podrobná bibliografia
Hlavní autori:	Middleman, Stanley (Autor), Hochberg, Arthur K (Autor)
Médium:	Kniha
Jazyk:	English
Vydavateľské údaje:	New York : McGraw-Hill, 1993
Vydanie:	1.vyd.
Predmet:	polovodiče polovodičové materiály fyzika tuhých látok mikrolitografia iónová implantácia plazmové leptanie iónové leptanie Pokovovanie
Tagy:	Pridať tag Žiadne tagy, Buďte prvý, kto otaguje tento záznam!

View in STU Opac

Process Engineering Analysis in Semiconductor Device Fabrication / Autor Middleman, Stanley, Hochberg, Arthur K

Vydavateľské údaje 1993

Kniha