Vplyv techniky depozície Ru a RuO2 kovových hradiel na elektrické vlastnosti štruktúr MOS a Ta2O5 hradlovýcm dielektrikom
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Weitere Verfasser: | , |
| Format: | Manuskript Buch |
| Sprache: | Slowakisch |
| Veröffentlicht: |
Bratislava :
STU v Bratislave FEI,
2008
|
| Schlagworte: | |
| Tags: |
Keine Tags, Fügen Sie das erste Tag hinzu!
|
Ähnliche Einträge: Vplyv techniky depozície Ru a RuO2 kovových hradiel na elektrické vlastnosti štruktúr MOS a Ta2O5 hradlovýcm dielektrikom
- Ru nitrosyl, investigation of redox properties
- Fotochemické charakteristiky a reaktivita Ru nitrosylov
- Multilingual vocabulary of water terms EN-SK-HU-RU
- Bioaktívne komplexy Ru s NO ligandom, redox a foto-chemická charakterizácia
- Meranie teplotných závislostí rezistivity tenkých vrstiev Ru-SiO pre pokročilú CMOS technológiu
- Vypracovanie čiastkového programu zabezpečenia kvality pre prevádzku RU RAO, Mochovce : Diplomová práca