Vplyv techniky depozície Ru a RuO2 kovových hradiel na elektrické vlastnosti štruktúr MOS a Ta2O5 hradlovýcm dielektrikom
Saved in:
| Main Author: | |
|---|---|
| Other Authors: | , |
| Format: | Manuscript Book |
| Language: | Slovak |
| Published: |
Bratislava :
STU v Bratislave FEI,
2008
|
| Subjects: | |
| Tags: |
No Tags, Be the first to tag this record!
|
Similar Items: Vplyv techniky depozície Ru a RuO2 kovových hradiel na elektrické vlastnosti štruktúr MOS a Ta2O5 hradlovýcm dielektrikom
- Ru nitrosyl, investigation of redox properties
- Fotochemické charakteristiky a reaktivita Ru nitrosylov
- Multilingual vocabulary of water terms EN-SK-HU-RU
- Bioaktívne komplexy Ru s NO ligandom, redox a foto-chemická charakterizácia
- Meranie teplotných závislostí rezistivity tenkých vrstiev Ru-SiO pre pokročilú CMOS technológiu
- Vypracovanie čiastkového programu zabezpečenia kvality pre prevádzku RU RAO, Mochovce : Diplomová práca