Hochdosisimplamtation von Stickstoff in Silizium: Eine Technik zur Erzeugung von dielektrisch isolierten CMOS-Bauelementen mit hoher Integrationsdichte /
Uložené v:
| Hlavný autor: | |
|---|---|
| Médium: | Kniha |
| Jazyk: | German |
| Vydavateľské údaje: |
Düsseldorf :
VDI Verlag,
1986
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| Tagy: |
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