Hochdosisimplamtation von Stickstoff in Silizium: Eine Technik zur Erzeugung von dielektrisch isolierten CMOS-Bauelementen mit hoher Integrationsdichte /
Salvato in:
| Autore principale: | |
|---|---|
| Natura: | Libro |
| Lingua: | tedesco |
| Pubblicazione: |
Düsseldorf :
VDI Verlag,
1986
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| Tags: |
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