Optimalizácia elektrónovej litografie na prípravu nanoštruktúr pre vybrané senzorové aplikácie

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Autore principale: Vajda, Matúš (Autore)
Altri autori: Pavúk, Milan (Relatore della tesi)
Natura: Manoscritto Libro
Lingua:slovacco
Pubblicazione: Bratislava : STU v Bratislave FEI, 2023
Soggetti:
Jednofotónový detektor
Skenovací elektrónový mikroskop
Suché leptanie
Elektrónová litografia
Nanodrôt
Single-photon detector
Electron-beam lithography
Nanowire
Scanning electron microscope
Dry etching
Accesso online:https://opac.crzp.sk/?fn=detailBiblioFormChildA85TG&sid=C03CB0FBA6588971DE3F23D1B6BF&seo=CRZP-detail-kniha
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Descrizione fisica:67 s.

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